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Texto Técnico | Filmes Finos Super-duros | Português | 31/08/2001
Autores: Carlos Alberto Achete, Helio Siqueira de Lima Júnior
Palavras-chave: filmes finos, magnetron sputtering, sicn
Resumo: No presente trabalho produzimos filmes de carbonitreto de silício (SiCN) pela técnica PVD de r.f. (rádio-freqüência) magnetron sputtering como revestimentos em substratos de aço inoxidável e silício. Os filmes foram depositados utilizando-se um alvo de carbeto de silício (SiC) e como gás de trabalho uma mistura de nitrogênio (N2) e argônio (Ar). A preparação dos substratos e a vazão de nitrogênio foram variáveis trabalhadas a fim de se obter uma otimização da aderência e das propriedades dos filmes, como tensão interna e dureza. Filmes sobre substratos de silício apresentaram-se bem aderentes e constatou-se que para produzir filmes em substratos de aço inox é necessária a deposição inicial de uma fina camada de SiC e a realização de aquecimento do substrato. Aparentemente não foi possível observar nenhuma influência direta do método de preparação (polimento) das amostras na adesão dos filmes de SiCN. Os filmes apresentaram um valor médio de tensão interna residual igual a 0,8GPa e dureza de até 18,5GPa.
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